電子材料

株式会社エスケーエレクトロニクス(日本)

エスケーエレクトロニクス社は、1980年代に世界において初めて大型電子ビーム描画装置による液晶パネル用大型フォトマスクの製造を開始した株式会社写真化学の電子事業部門を2001年10月に分社独立して、創設された企業です。
液晶パネルをはじめとしたフラットパネルディスプレイ用フォトマスク市場のパイオニアとして、材料メーカや装置メーカと一体となって積極的に技術を開発してきました。

大型フォトマスク

"フォトマスク"とは、透明なガラス基板の上に、光を通さない材料によってディスプレイパネルや電子デバイスのパターンを形成したものであり、パターンを焼付ける際の原版となります。
この原版となるフォトマスクを複数枚使って、異なるパターンを一層ずつ重ね合わせて、何千、何万個もの電子デバイスが製造されます。
エスケーエレクトロニクス社が製造するフォトマスクは、ディスプレイパネルや電子デバイスの製造に用いられる大型フォトマスクです。6インチ角から、1mを超える大型のフォトマスクまで、様々な製品分野において最適なフォトマスクを提供しています。

Nanomakers (フランス)

Nanomakers は、CEA(フランス原子力・代替エネルギー庁)よりスピンオフし、2009 年11 月に設立された民間企業で、SiC ナノパウダー製造会社です。
CEA の持つ特許・ノウハウを無償で独占的に使用する権利を持ち、独自の技術で差別化された製品を製造しております。
2012 年1 月には自社工場が完成し、年間10 トン量産ラインが稼動し、その後も継続的な増設を計画しており、最終目標で年間100 トンの生産量を予定しています。

NM SiC 99

粒度分布が良く、粒径が均一
純度が高い(純度99.99%)

サンプルとして提案可能なSiC ナノパウダー粒径サイズは次のとおりです。

  • NM SiC 99 @ 35 nm
  • NM SiC 99 @ 75 nm

※サンプル提供サイズは上記の通りです。量産適用時には、他の粒径サイズも提案が可能です。

NM SiΩC 99

粒度分布が良く、粒径が均一
純度が高い(純度99.99%)

提案可能なカーボンコートSi ナノパウダー粒径サイズは次のとおりです。

  • NM SiΩC 99 @ 40 nm - コーティング 2-3 nm
  • NM SiΩC 99 @ 75 nm - コーティング 2-3 nm

※サンプル提供サイズは上記の通りです。量産適用時には、他の粒径サイズも提案が可能です。
※カーボンコーティングの代わりに酸化被覆したSi ナノパウダーのご提案も可能です。

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